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凍干機預凍過程 2019-08-21

水溶液溫度降到一定時，根據溶液共晶濃度，濃度淡溶液里開始結冰，這個溫度就叫結冰點。一般來說結冰點受濃度的支配與濃度一起下降。溶液溫度低于結冰點時，溶液中的一部分會結晶析出，剩下的溶液濃度將會上升，就這樣結冰點下降，接著繼續冷卻，冰結晶隨著冷卻而增加，剩下的溶液濃度隨之而增大。可是溫度降到某一點時剩下的溶液就全部凍結，這時的凍結物里混雜著冰晶體，這時的溫度就是共晶點。溶液需過冷到冰點以后，其內產生晶核以后，自由水才會開始以冰的形式結晶，同時放出結晶熱使其溫度上升到冰點，隨著晶體... 查看更多
凍干機干燥階段的水分控制 2019-08-21

凍干機干燥過程對水分的控制是保證凍干制劑質量的關鍵，說到水分控制我們必須先引入玻璃態轉化溫度（Tg）的概念，有些液體非晶態物料在被冷卻固化過程中不經過相變，而是連續地固化成玻璃體，這個過程稱為玻璃化轉變，所對應的溫度稱為Tg。當物料到達這一溫度時，很小的溫度就可能引起冷凍濃縮液黏度的顯著增加，同時冰的結晶停止。無論是第1、第2干燥階段還是貯存中的制劑溫度都必須控制在Tg以下，否則冷凍濃縮液將會發生流動，破壞了冷凍建立起來的微細結構，就會發生塌陷。對于凍干制劑藥品水分含量的控制... 查看更多
冷水機組常用的載冷劑 2019-08-20

載冷劑先在冷水機組蒸發器中冷卻降溫，再被汞送到用冷處，采用載冷劑后，制冷系統可安置在一個很小的空間，從而減少了制冷劑的從注量，便于裝置的安裝，運行和管理，也便于冷量在各用冷場合的分配，理想的載冷劑應無毒，不可燃，密度小，黏度小，傳熱性好，比熱容大，在適用的溫度范圍內既不汽化也不凝固，冷水機組常用的載冷劑是水、無機鹽水溶液和有機物溶液。1、水水用于載冷溫度大于0度的場合，2、無機鹽水溶液要取低于0度的制冷量時，可用鹽水溶液為載冷劑。鹽水作為載冷劑度的主要缺點是對金屬有強的腐蝕性... 查看更多
凍干機在夏天無中藥材領域的應用 2019-08-20

夏天無是民間常用藥材，具有多種藥理作用，臨床上應用廣泛，并取得顯著療效，且毒副作用較小，無身體依賴性。近年來對夏天無的深入研究，以及凍干機技術的發展，作為一味很有前景的中藥材，其將能更好地服務于患者。采用上海田楓儀器有限公司生產的凍干機對新鮮的夏天無進行真空冷凍干燥的新型中藥材，凍干夏天無有效含量高，安全衛生、易儲存。凍干夏天無與傳統曬干的夏天無相比：1、凍干夏天無極大限度保留有效成分含量，接近新鮮夏天無，外觀飽滿，色澤鮮活，易粉碎，易保存。2、傳統曬干的夏天無容易造成先天武... 查看更多
冷水機在PET塑料注塑行業的應用 2019-08-20

PET(聚對苯二甲酸乙二醇酯的簡稱)是一種合格安全的藥品、食品的包裝材料。PET分子結構規整，是支化極小的大分子，屬于結晶性高聚物，一般采用注塑成型方法，可成型各種形狀復雜、尺寸的注塑制品。但由于PET的結晶速度慢，結晶溫度高，注塑成型的時候只要能快速冷卻，讓制品以快的速度渡過熔融結晶溫度區域，使大分子鏈沒有足夠的時間進行排列結晶，就可獲得結晶度低、透明度高的制品。因此，PET瓶胚注塑成型需要冷水機提供大量冷凍水來冷卻，使熔體的PET在模腔里以快的速度渡過熔融結晶溫度區域，得... 查看更多
冷水機在激光投影技術上的應用 2019-08-19

總所周知激光投影技術是目前世界上高科技投影技術。但激光光源對溫度要求較高，理想的工作溫度需要維持在土Rc的區間內。因此，冷水機的作用直接影響到光源模塊的出光效率和色彩的穩定性。以保障激光光源能夠長時間穩定地工作。把激光發生器(即激光模塊)安裝固定在水冷板上，由管路連接到冷水機上，通過冷水機的冷卻和恒溫作用，將激光模塊產生的熱量帶走，并使溫度保持在土IV的恒定范圍內。冷水機的進風口可置于激光光源機柜的前門，冷風可通過風扇將換熱器熱量帶至主風道。同時，機柜出風口接入建筑物安裝的排... 查看更多
冷水機毛細管尺寸如何選擇 2019-08-19

冷水機制冷系統用毛細管作節流機構時。在選配上不像用膨脹閥那樣可以由設計計算直接決定選型，毛細管的尺寸及冷水機制冷系統中制冷劑充灌量應使得在預定運行條件下制冷量充分發揮，能效更佳。原則上講毛細管的尺寸必須與制冷能力與運行工況相匹配，即滿足阻力將和的制冷劑流量要求，毛細管的阻力應該能夠足以在設計中需要按要求的制冷劑液封，又不能有過多的液體積存在冷凝器中，確定毛細管尺寸。盡管基于理論分析建立毛細管中兩相流動呃呃呃熱力模型可以進行的計算。但除了主要因素外，影響毛細管的流量的附加因素有... 查看更多
半導體冷水機的作用 2019-08-19

半導體冷水機是指應用在半導體領域，如掃描光刻機、微納坐標測量機、掃描探針顯微鏡等超精密儀器的高精度冷水機組。半導體冷水機的出現以及廣泛應用，是隨著科技的不斷發展，現代超精密制造、加工、測量儀器對工作環境提出了苛刻要求，尤其是以光刻機為代表的超大規模集成電路制造設備，其高集成度導致常規散熱方法遠遠不能滿足要求，同時投影物鏡的光刻質量、運動部件的定位精度以及測量裝置的測量精度等都對環境參數的變化特別是溫度的變化尤為敏感。因此，環境參數尤其是溫度的控制成為一項關鍵問題，而半導體冷水... 查看更多

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